台積電關鍵技術外洩案進入司法程序。高檢署智慧財產檢察分署今（18）日將羈押中的前工程師陳力銘及在職工程師吳秉駿、戈一平3人移審智慧財產及商業法院，由法官裁定是否繼續羈押禁見。

檢方起訴指出，陳力銘曾任台積電12廠良率部門工程師，離職後進入東京威力科創公司行銷部門。檢方查出，陳自2023年下半年起，多次要求仍於台積電在職的吳秉駿與戈一平提供台積電2奈米製程相關技術與營業秘密，並重製影像資料，協助東京威力改善蝕刻機台表現，以爭取台積電2奈米製程蝕刻站點供應量產機台資格。

台積電發現異常後展開內部調查，於今年7月8日提出告訴。智財分署檢察官隨即指揮調查局新竹市調查站等單位搜索，並於7月底拘提3人到案，法院裁准羈押禁見。

檢方經分析電磁紀錄與證物，認定3人犯罪事證明確，依《營業秘密法》竊取營業秘密罪、《國家安全法》國家核心關鍵技術營業秘密域外使用等罪嫌，於8月27日提起公訴。檢方認為，本案涉及半導體產業命脈，嚴重威脅國際競爭力，請求從重量刑，建議量刑分別為陳力銘14年、吳秉駿9年、戈一平7年徒刑。

目前3人均在押，是否持續羈押，將由智財法院裁定。